실험실 가열 프레스
180x180 mm 독립 가열 플래튼 및 수냉식을 갖춘 25톤 자동 가열 실험실 유압 프레스
품목 번호 : XP81
가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의
- 가압력
- 0 – 25.0 톤
- 가열판 크기
- 180×180 mm
- 최대 온도
- 300°C
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제품 개요


이 시스템은 까다로운 재료 연구, 고분자 제조, 촉매 반응 및 세라믹 치밀화를 위해 설계된 고정밀 벤치탑 자동 가열 유압 프레스입니다. 핵심 가치는 25톤의 폐쇄 루프 압력을 이중 독립 가열 플래튼 및 정밀 열 프로그래밍과 결합하여 다양한 첨단 공정 전반에 걸쳐 재현 가능한 결과를 가능하게 하는 것입니다.
주요 사용 사례는 학술, 산업 및 정부 연구실에서 박막 제조, 복합재 핫 프레싱, 분광학용 시료 준비 및 고분자 합성을 포함합니다. 이 장비는 수동 개입 없이 일정한 압력 및 온도 프로파일을 요구하는 연구자들에게 신뢰받고 있습니다.
견고한 강철 프레임으로 제작되어 180 kg의 무게를 가진 이 장치는 작동 중 처짐과 소음을 최소화하여 장기적인 안정성을 보장합니다. 통합 수냉 루프와 CE 인증 안전 기능은 고온 고압 사이클링에서도 안정적인 성능을 제공합니다.
주요 특징
- 제로 갭 클로징 기능: 50 mm 최대 데이라이트와 전체 50 mm 피스톤 스트로크로 플래튼이 0 mm까지 닫힐 수 있어 초박막 프레싱에 직접 접촉이 가능하고 균일한 압력 분포를 달성할 수 있습니다.
- 독립 이중 존 프로그래밍 가능 가열: 각 180×180 mm 플래튼은 ±1 °C 정확도의 PID 알고리즘으로 제어되며 300 °C까지 다단계 승온/유지 프로파일을 지원합니다. 사용자는 상부 및 하부 플래튼에 대해 뚜렷한 가열 속도와 유지 시간을 설정할 수 있습니다.
- 폐쇄 루프 자동 압력 제어: 터치스크린에 목표 톤수를 입력하면 통합 펌프가 자동으로 압력을 형성하고 자동 보상으로 유지하여 드리프트를 제거하고 재현 가능한 치밀화를 보장합니다.
- 견고한 벤치탑 구조: 중부하 용접 프레임과 고밀도 주철 부품은 최대 부하에서도 진동을 감쇠시키고 변형에 저항하여 지속적인 실험실 사용에 적합합니다.
- 통합 수냉 시스템: 두 플래튼의 내부 냉각 채널은 외부 재순환 냉각기 또는 수돗물에 연결했을 때 300 °C에서 안전한 취급 온도까지 빠른 냉각을 가능하게 하여 열 사이클링 속도를 높입니다.
- 7인치 직관적인 터치스크린 컨트롤러: 레시피 저장과 함께 압력 및 온도 곡선을 실시간으로 표시하여 조작을 간소화하고 기술자가 실험을 한눈에 모니터링할 수 있습니다.
- CE 인증 안전성: 전체 보호 쉴드가 프레싱 영역을 둘러싸고 있으며 과온 및 과압 자동 차단 기능으로 작업자와 시료를 모두 보호합니다.
응용 분야
| 응용 분야 | 설명 | 주요 이점 |
|---|---|---|
| 고분자 박막 생산 | 정밀 두께 제어로 열가소성 필름, 멤브레인 및 기판 프레싱 | 제로 갭 클로징으로 마이크론 단위까지 균일한 필름 두께 보장 |
| 세라믹 치밀화 | 고온에서 공업용 세라믹(예: 알루미나, 지르코니아)의 고압 소결 | 폐쇄 루프 압력과 프로그래밍 가능 가열로 고밀도 균열 없는 부품 생산 |
| 핫 엠보싱 및 적층 | 미세유체 장치 또는 복합 적층재용 고분자 층의 미세 구조화 및 본딩 | 독립 온도 제어로 맞춤형 본딩 조건 가능 |
| 촉매 반응 합성 | 제어된 열과 압력 하에서 촉매 펠릿 또는 구조화 촉매 제조 | 재현 가능한 압력 프로파일로 촉매 일관성과 활성 향상 |
| 분광학 시료 준비 | FTIR 및 XRF 분석용 KBr 펠릿 또는 XRF 용융 비드 성형 | 25톤 용량으로 오염이 최소화된 투명하고 견고한 펠릿 생산 |
| 배터리 재료 연구 | 전극 재료 및 고체 전해질 필름 압축 | 균일한 압력과 온도로 최적의 이온 전도성과 밀도 촉진 |
| 복합 재료 성형 | 섬유 강화 고분자 및 금속 기지 복합재 가공 | 300°C에서 냉각으로 빠른 열 사이클링이 가능하여 사이클 시간 단축 |
| 재료 시험 시편 | 기계 및 열 분석용 표준 시험 바 또는 디스크 성형 | 높은 반복성으로 배치 전반에 걸쳐 일관된 시편 특성 보장 |
기술 사양
| 매개변수 | 사양 |
|---|---|
| 모델 | XP81 |
| 플래튼 크기 | 180×180 mm |
| 압력 범위 | 0 – 25.0 톤 (0 - 250 KN) |
| 최대 데이라이트 | 50 mm |
| 피스톤 스트로크 | 50 mm (0 mm 전체 폐쇄 지원) |
| 최대 온도 | 300 °C |
| 가열 제어 | 승온/유지 기능이 있는 PID 터치스크린, ±1 °C 정확도 |
| 총 가열 전력 | 2,500 W |
| 냉각 방식 | 순환 수냉식 (외부 소스 필요) |
| 컨트롤러 | 7인치 컬러 터치스크린, 실시간 압력/온도 곡선 |
| 전원 공급 | AC 220V/50Hz 또는 AC 110V/60Hz |
| 치수 (가로×세로×높이) | 335×410×625 mm |
| 순중량 | 180 kg |
| 제조사 | KINTEK SOLUTION LTD |
| 안전 및 인증 | 보호 쉴드, 과온/과압 차단, CE 인증 |
옵션 액세서리
| 액세서리 | 설명 |
|---|---|
| 외부 재순환 냉각기 | 플래튼을 300°C에서 안전 온도까지 빠르게 냉각하고 내부 채널 스케일링을 방지합니다. 고처리량 연구실에 권장됩니다. |
| PMS-D 시리즈 분해 가능 사각 몰드 | 25×25 mm, 35×35 mm 또는 맞춤 크기; 분말 프레싱 및 박막 시료 무결성을 위해 쉽게 분해할 수 있습니다. |
이 제품을 선택해야 하는 이유
- 검증된 장기 신뢰성: 일체형 프레임과 정밀 가공 유압 부품으로 설계된 이 프레스는 드리프트 없이 수만 번의 작동에 걸쳐 일관된 압력 사이클을 제공하여 재현 가능한 연구 결과를 보장합니다.
- 타협 없는 온도 정밀도: 독립 승온/유지 기능과 ±1 °C 안정성을 갖춘 이중 PID 루프는 열 프로파일의 정확한 복제를 가능하게 하며, 고분자부터 첨단 세라믹까지 공정에 민감한 재료에 매우 중요합니다.
- 생산성 극대화: 완전 자동 압력 및 온도 프로그래밍은 작업자가 다른 작업을 할 수 있게 해주며, 통합 수냉 옵션은 자연 냉각에 비해 사이클 시간을 극적으로 단축시켜 바쁜 다중 사용자 연구실에 이상적입니다.
- 인증된 안전성 및 규정 준수: CE 인증, 전체 보호 쉴드, 이중 압력/온도 안전 차단은 귀중한 시료와 인력을 보호하며 가장 엄격한 실험실 안전 기준을 충족합니다.
- 확장 가능한 맞춤화: 다양한 옵션 몰드와 개방형 프레임 설계는 맞춤 툴링에 쉽게 적응할 수 있어 이 시스템을 진화하는 연구 요구에 유연한 플랫폼으로 만들어줍니다.
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