제품 실험실 유압 프레스 실험실 가열 프레스 분리형 수동 핫 프레스 120x120mm 가압판 24톤 힘 16.3 MPa 고압 마이크로 시편 제조
분리형 수동 핫 프레스 120x120mm 가압판 24톤 힘 16.3 MPa 고압 마이크로 시편 제조

실험실 가열 프레스

분리형 수동 핫 프레스 120x120mm 가압판 24톤 힘 16.3 MPa 고압 마이크로 시편 제조

품목 번호 : XP54

가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의


최대 힘
0 – 24 미터톤
플래튼 표면 압력
≤ 16.3 MPa (약 163 바)
가열 플래튼 치수
120 × 120 mm (독립적으로 온도 제어되는 듀얼 플래튼)
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제품 개요

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이 수동 유압 핫 프레스는 마이크로 시편, 박막 및 소형 부품의 고압 정밀 프레싱을 위해 설계되었습니다. 분리형 설계는 프레스 프레임과 온도 컨트롤러를 물리적으로 분리하여 열 드리프트와 진동 간섭을 방지하고 장기적인 전자적 안정성을 보장합니다. 최대 24톤의 힘과 컴팩트한 120 × 120 mm 가압판 면적에 16.3 MPa의 높은 표면 압력을 통해 까다로운 응용 분야에서 탁월한 치밀화를 달성합니다.

분광학 시편 제조(FTIR KBr 펠릿 및 XRF 분말 압축), 고체 전지 전해질 제조 및 마이크로 고분자 필름 적층에 이상적이며, 이 프레스는 마이크론 수준의 시편 품질을 요구하는 학술 및 산업 연구소에 적합합니다. 낮은 500W 전력 소비와 간단한 단상 220V 플러그 앤 플레이 방식으로 특별한 전기 인프라 없이 모든 실험대에서 사용할 수 있습니다.

견고함을 위해 설계된 이 프레스는 올스틸 프레임과 24톤까지 노력 없는 수동 로딩이 가능한 고비율 유압 메커니즘을 특징으로 합니다. 가압판 내부에 통합된 수냉 채널은 가열 후 급속 냉각을 가능하게 하여 실험 처리량을 향상시킵니다. 이 시스템은 연속 사용 중 반복 가능하고 고밀도의 결과를 제공합니다.

주요 특징

  • 극한 압력 밀도: 이 시스템은 120×120 mm 가압판에서 최대 16.3 MPa (163 Bar)의 표면 압력을 전달하여, 고밀도 분말 압축체와 박막 적층을 위해 힘을 집중합니다. 이 압력 수준은 세라믹 및 전지 전해질 재료에서 >98%의 상대 밀도를 달성하는 데 이상적이며, 2차 가압 단계의 필요성을 제거합니다.
  • 분리형 열 및 진동 절연: 프레스 프레임과 전자 컨트롤러가 물리적으로 분리되어 있어 민감한 부품을 열 복사 및 기계적 충격으로부터 보호하여 장비 수명을 연장하고 글로브박스나 후드 내 유연한 설치를 가능하게 합니다. 이 설계는 또한 프레스 메커니즘과 전자 부품을 독립적으로 서비스할 수 있어 유지보수 및 교정을 용이하게 합니다.
  • 초저전력 플러그 앤 플레이: 정격 전력은 500W, 작동 전류는 2.27A로 표준 단상 220V 콘센트에서 작동하며 시설 수정 없이 이동이나 공간이 제한된 실험실 환경에 이상적입니다. 낮은 에너지 소비는 설치를 단순화할 뿐만 아니라 대용량 대안 제품에 비해 운영 비용을 절감하며, 일반적인 실험실 사용 시 연간 전기 비용은 50달러 미만으로 추정됩니다.
  • 통합 수냉 시스템: 가열 가압판에 내장된 냉각 채널은 외부 수원을 연결하여 가공 후 온도를 급속히 낮추어 일일 시편 처리량을 획기적으로 늘리고 가압 사이클 간 시간을 단축합니다. 수회로는 표준 실험실 쿨러나 수돗물과 호환되며 유량은 외부에서 제어할 수 있습니다. 이 기능은 열가소성 시편의 연속적인 열-냉 가압에 특히 유용합니다.
  • 노력 없는 수동 유압 작동: 고감속비 유압 시스템은 인체공학적 핸들 레버를 사용하여 24톤까지 부드럽고 적은 노력으로 수동 로딩을 가능하게 하며, 작은 설치 공간과 인상적인 힘 용량을 결합했습니다. 인체공학적 레버와 미세 공급 조절은 압력 증분을 정밀하게 제어할 수 있어 균열을 방지하기 위해 점진적인 압축이 필요한 민감한 시편에 중요합니다.
  • 정밀 PID 온도 제어: 고급 디지털 PID 컨트롤러는 오버슈트를 최소화하면서 300°C까지 정확한 온도를 유지하여 양쪽 가압판의 균일한 가열과 일관된 접합 및 가압 품질을 보장합니다. 온도 리플은 ±1°C 이내로 열가소성 필름 공정에 중요합니다. 컨트롤러는 다중 프로그램 세그먼트를 저장하여 단계적 가열이 필요한 재료의 램프 및 유지 프로필을 가능하게 하며, 공장 교정은 장기적인 설정점 정확도를 보장합니다.
  • 컴팩트한 올스틸 구조: 호스트 유닛은 600×300×550 mm에 불과하지만 높은 가압력을 흡수하는 강성 스틸 프레임을 통합하여 연속적인 중량 작업에서도 탁월한 안정성과 내구성을 제공합니다. 진동 감각 발은 실험대의 움직임으로부터 프레스를 추가로 분리하여 가압 중 일관된 마이크로 스케일 정렬에 기여합니다.
  • 다양한 금형 조정 가능한 개구: 0–130 mm 조정 가능한 가압판 간격은 다양한 금형 높이와 장치 두께를 수용하여 다양한 시편 유형 및 다층 어셈블리에 대한 유연성을 높입니다. 개구 조절 메커니즘은 간단하며 빠른 설정을 위한 눈금 표시가 있어 다른 금형 세트 간 교체 시간을 단축합니다.
  • 정밀 가공된 가압판 평행도: 상하 가열 가압판은 평면도와 평행도를 위해 정밀 연마되어 120×120 mm 전체 영역에 걸쳐 균일한 압력 전달과 일관된 시편 두께를 보장하며 균일한 필름과 압축체 제조에 필수적입니다. 가압판은 경화된 내부식 공구강으로 만들어져 수천 번의 고온 사이클 후에도 평면도를 유지합니다.
  • 강력한 안전 기능: 프레스는 기계적 엔드 스톱, 안전 릴리프 밸브 및 열 과열 보호를 포함하여 우발적 과부하를 방지하고 숙련되지 않은 사용자도 안전하게 작동할 수 있습니다. 읽기 쉬운 아날로그 압력 게이지는 실시간 힘 피드백을 제공하여 운영자에게 완전한 제어권을 부여하고 의도치 않은 과부하를 방지합니다.

응용 분야

이 수동 핫 프레스는 다양한 연구 및 제조 분야에서 활용됩니다:

응용 분야 설명 주요 이점
FTIR/KBr 펠릿 제조 적절히 제어된 열과 고압으로 시편 혼합물을 가압하여 적외선 분광학용 투명한 KBr 디스크를 제조합니다. 초고압 밀도로 인한 높은 투명도와 균일성을 달성하여 신호 아티팩트를 최소화하고 분광 품질을 향상시킵니다.
XRF 분말 시편 가압 X선 형광 분석을 위해 분말 재료를 밀도 높고 평평한 펠릿으로 압축하여 재현 가능한 여기 기하학과 최소한의 공극을 보장합니다. 탁월한 밀도와 표면 평활도를 달성하여 매트릭스 효과를 줄이고 분석 정확도 및 검출 한계를 개선합니다.
고체 전지 전해질 펠릿화 이온 전도도 테 및 셀 조립을 위해 고체 전해질 분말(예: 황화물 또는 산화물 세라믹)을 고밀도 펠릿으로 가압합니다. 16.3 MPa 표면 압력은 높은 이온 접촉과 기계적 무결성을 보장하며 전지 성능과 재현 가능한 테스트 데이터에 중요합니다.
열가소성 고분자 필름 적층 광학, 배리어 또는 유전 특성 연구를 위한 마이크로 스케일 열가소성 필름, 액정 고분자 또는 특수 수지의 핫 프레싱. 균일한 온도와 압력으로 정밀한 두께 제어가 가능한 평평하고 결함이 없는 필름을 생산하여 정확한 재료 특성 평가를 가능하게 합니다.
전자 센서/액추에이터 조립 마이크로 가공 센서 및 액추에이터용 압전 세라믹, 전극 및 고분자 기판 층을 제어된 열과 압력 하에 적층합니다. 조정 가능한 가압판 간격을 통한 저력 정밀도는 접합 중 취약한 부품을 보호하여 높은 수율과 장치 신뢰성을 보장합니다.
복합 재료 연구 기계적 테스트 및 파손 분석을 위해 섬유 강화 또는 입자 충전 고분자 복합 재료의 소형 테스트 피스를 제조합니다. 일관된 온도와 고압으로 완전한 매트릭스 응집과 최소한의 공극 함량을 달성하여 대표적인 복합 재료 특성을 얻습니다.
기술 세라믹 예비 소결 최종 소결 전 녹색 밀도를 높이고 수축 및 뒤틀림을 줄이기 위해 세라믹 성형체(예: 알루미나, 지르코니아)를 핫 프레싱합니다. 더 높은 녹색 밀도는 더 나은 소결 특성, 적은 후가공 및 개선된 부품 공차로 이어집니다.

기술 사양

매개변수 사양
모델 XP54
구조 형식 분리형 설계 (프레스 프레임과 온도 컨트롤러 물리적 분리)
압력 제어 수동 유압 구동
최대 힘 0 – 24 미터 톤
가압판 표면 압력 ≤ 16.3 MPa (약 163 Bar)
가열 가압판 치수 120 × 120 mm (독립적 온도 제어 가압판 2개)
개구 조절 범위 0 – 130 mm
최대 작동 온도 300 °C (온도 제어 범위: 0 – 300 °C)
총 가열 전력 500 W
온도 제어 방식 과열 보호 기능이 있는 PID 지능형 컨트롤러
냉각 방식 통합 수냉 채널; 급속 냉각을 위한 외부 수원 연결
전원 공급 단상 AC 220V, 50 Hz; 작동 전류 2.27 A, 표준 실험실 콘센트 호환
장비 무게 112 kg
호스트 유닛 치수 (W×D×H) 600 × 300 × 550 mm
컨트롤러 치수 (W×D×H) 490 × 395 × 235 mm

이 제품을 선택해야 하는 이유

  • 마이크로 시편에 최적화된 압력: 넓은 면적에 압력을 분산시키는 일반 대형 프레스와 달리, 이 시스템의 120×120 mm 가압판에 대한 16.3 MPa 등급은 컴팩트한 마이크로 시편용으로 특별히 제작되어 FTIR 펠릿, 전지 전해질 및 미세 분말 야금에 최고의 밀도와 재현성을 보장합니다. 이러한 초점은 더 나은 데이터 품질과 출판 가능한 결과로 직결됩니다.
  • 업계 선두의 내구성: 분리형 아구철처와 올스틸 구조는 중량 사용 환경의 학술 및 산업 분야에서 입증되었습니다. 유압 피스톤 및 씰과 같은 핵심 부품은 수천 사이클 등급이며, 분리된 컨트롤러는 열 부하로부터 보호되어 통합 설계에 비해 전자적 고장을 획기적으로 줄입니다.
  • 시설 수정 불필요: 500W 전력 소비와 표준 220V 플러그만 있으면 개봉 후 몇 분 내에 작동할 수 있습니다. 압축 공기, 수도 라인(선택적 냉각 제외) 또는 구조적 바닥 보강이 필요 없습니다. 이러한 이동성은 실험실 간 쉬운 이동과 글로브박스 또는 출입 제한 구역으로의 통합을 가능하게 합니다.
  • 정밀 엔지니어링 및 안전 규정 준수: 모든 프레스는 가압판 평행도(±0.02 mm), 온도 균일성(설정점에서 ±2°C) 및 유압 누설 없는 성능에 대한 엄격한 공장 테스트를 거칩니다. 압력 릴리프 밸브 및 열 차단기를 포함한 다중 안전 인터락이 운영자와 시편을 보호합니다.
  • 종합 맞춤화 및 지원: 당사의 응용 엔지니어는 시편 제조의 특수한 요구 사항을 이해합니다. 맞춤형 가압판 재료, 대체 온도 범위 및 맞춤형 제어 프로필을 제공합니다. 구매 후 KINTEK은 신속한 기술 지원, 예비 부품 및 현장 서비스 계획을 제공하여 연구가 중단 없이 진행되도록 합니다.

실험실 프레싱 솔루션 분야에서 KINTEK의 20년 경험을 바탕으로, 이 프레스는 정밀도와 신뢰성에 대한 장기적인 투자입니다. 견적이나 가상 데모를 요청하려면 오늘 저희에게 연락하십시오. 당사 팀은 귀하의 특정 응용 분야에 맞는 올바른 구성을 선택하는 데 도움을 준비되어 있습니다.

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