
온열 등방성 프레스
고체 배터리 연구용 온열 등방성 프레스 온열 등방성 프레스
품목 번호 : PCIH
가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의
- 압력 범위
- 0-100T
- 난방 온도
- 실내 온도-200.0C
- 등방성 압력
- 300MPa~500MPa

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킨텍 열간 등방성 프레스(WIP): 첨단 소재를 위한 정밀 라미네이션
킨텍의 등방성 프레스(WIP)는 반도체 산업 및 고체 배터리와 같은 소재 개발에 필수적인 까다로운 라미네이션 및 고밀도화 공정을 위해 설계된 특수 실험실 장비입니다. 소니의 WIP 시스템은 정밀하게 제어되는 온도(일반적으로 50~100°C)와 고압 기능을 제공하며, 타협하지 않는 안전성과 정확성을 위해 ASME 표준에 따라 설계되었습니다. 이 기술은 다양한 전자 부품의 고품질 라미네이트를 제작하는 데 필수적이며 강도, 안정성 및 성능을 크게 향상시킵니다.
WIP 시스템의 설계 및 구성 요소를 살펴보세요:



킨텍의 WIP로 고급 재료 성능 활용하기
당사의 웜 아이소스타틱 프레스 시스템은 실험실 및 생산 요구 사항에 실질적인 이점을 제공하도록 설계되어 고품질 출력과 운영 효율성을 보장합니다.
- 우수한 라미네이션 및 고밀도화 달성: 통합 히터를 통한 정밀한 온도 제어(50~100°C)와 균일한 압력 분포로 밀도 변화를 최소화하여 재료 특성 향상, 고밀도화, 녹색 강도 개선으로 이어져 후속 공정이 빨라집니다.
- 공정 안전 및 신뢰성 보장: ASME 표준에 따라 설계 및 제조된 고압 펌프와 압력 용기가 장착된 소니의 WIP 시스템은 안전성과 정확성을 보장합니다. 압력 센서와 열전대를 통한 실시간 모니터링은 운영 제어를 더욱 향상시킵니다.
- 다양한 애플리케이션을 위한 다목적성: MLCC 적층, 하이브리드 칩, 연료 전지, 의료용 전자 제품, 다층 PZT, LTCC, 배리스터 및 기타 적층 전자 부품을 포함한 다양한 재료와 부품에 이상적입니다. 건조한 상태에서 재료를 처리할 수 있어 온도 균일성이 뛰어납니다.
- 사용자 친화적인 작동 및 사용자 지정: 그래픽 조작이 가능한 직관적인 터치 스크린으로 공정 관리를 간소화합니다. 핀 클로저 디자인으로 사용자 편의성이 향상되었습니다. 특수한 요구 사항을 위해 사용자 정의 가능한 모드를 통해 다양한 연구 및 생산 환경에 적응할 수 있습니다.
- 적응성과 유연성: WIP 시스템의 설계는 한 번에 여러 개의 백을 처리할 수 있고 소량 생산은 물론 크고 복잡한 부품도 수용할 수 있는 강력한 적응성을 제공합니다.
이러한 이점이 귀사의 특정 프로젝트에 어떻게 적용될 수 있는지 궁금하신가요? 지금 바로 전문가에게 문의하여 귀사의 애플리케이션에 대해 논의하세요.
작동 원리
열간 등방성 프레스(WIP)는 제어된 저온 환경(일반적으로 최대 100°C)에서 부품의 모든 표면에 균일한 압력을 가하는 방식으로 작동합니다. 따라서 기존의 가열식 압반 프레스와 달리 일관된 치밀화를 보장하고 치수 변화를 최소화합니다. 이 방법은 전자 산업에서 고품질 다층 세라믹 부품을 생산하는 라미네이팅 공정에 매우 중요합니다.
기술 사양
장비 모델 | PCIH-20T | PCIH-40T | PCIH-60T | PCIH-100T |
---|---|---|---|---|
압력 범위 | 0-20T | 0-40T | 0-60.0톤 | 0-100톤 |
피스톤 직경 | 크롬 도금 오일 실린더 130mm(d) | 크롬 도금 오일 실린더 150mm(d) | 크롬 도금 오일 실린더 200mm (d) | 크롬 도금 오일 실린더 220mm (d) |
가압 프로세스 | 프로그램 가압 - 프로그램 유지-시간 제한 압력 해제 | |||
유지 시간 | 1초 ~ 999분 | 1초 ~ 999분 | 1초 ~ 999분 | 1초 ~ 999분 |
압력 변환 | 프로그램이 시료가 받는 압력을 자동으로 변환합니다. | |||
디스플레이 | 7인치 LCD 화면 | 7인치 LCD 화면 | 7인치 LCD 화면 | 7인치 LCD 화면 |
난방 온도 | 실내 온도-200.0C | 실내 온도-200.0C | 실내 온도-200.0C | 실내 온도-200.0C |
등방성 압력 | 300MPa | 300MPa | 300MPa | 500MPa |
등방성 챔버 크기 | Φ30×150mm(M×N) | Φ40×150mm(M×N) | Φ×50×150(M×N) | Φ×50×150(M×N) |
피스톤 스트로크(T) | 50mm | 50mm | 50mm | 50mm |
주요 응용 분야
킨텍의 등방성 프레스(WIP)는 다양한 산업 분야에서 정밀한 라미네이션을 통해 재료 특성을 향상시키는 다용도 도구입니다. 주요 응용 분야는 다음과 같습니다:
- 하이브리드 칩: 최신 전자 기기의 하이브리드 칩 라미네이팅에 필수적입니다.
- MLCC 라미네이션: 적층 세라믹 커패시터(MLCC)의 정밀한 라미네이션을 가능하게 합니다.
- 블루투스 부품: Bluetooth 기술용 부품의 고품질 라미네이션을 보장합니다.
- 연료 전지: 재생 에너지 애플리케이션을 위한 연료 전지 생산을 지원합니다.
- 의료 전자 및 임플란트: 의료용 전자기기 및 임플란트 제작에 사용되어 높은 신뢰성을 보장합니다.
- 다층 PZT: 다층 압전 트랜스듀서(PZT) 생산에 사용됩니다.
- LTCC(저온 공화 세라믹): 전자 패키징용 LTCC 제조에 사용됩니다.
- 배리스터: 전자 회로를 보호하기 위한 배리스터 라미네이팅에 사용됩니다.
- 기타 적층 전자 부품: 향상된 강도, 안정성 및 외관을 필요로 하는 다양한 적층 전자 부품에 적용할 수 있습니다.
이러한 응용 분야는 재료 특성을 개선하는 WIP의 기능을 강조하여 첨단 제조 및 연구 분야에서 없어서는 안 될 도구가 되었습니다.
실험실 프레스 요구 사항을 위한 KINTEK 파트너
킨텍은 다양한 실험실 요구 사항을 충족하기 위해 자동 실험실 프레스, 실험실 등방성 프레스 및 가열식 실험실 프레스를 포함한 고품질 실험실 프레스 기계를 전문적으로 제공합니다. 당사의 등방성 프레스(WIP)는 혁신과 품질에 대한 당사의 헌신을 입증하는 제품입니다.
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다양한 종류의 실험실용 프레스 몰드
다양한 종류의 몰드를 선택하실 수 있으며, 몰드는 신체에 완벽하게 맞습니다.
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다양한 랩 프레스 유형
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FAQ
실험실 등방성 프레스의 원리는 무엇인가요?
등방성 프레스란 무엇인가요?
실험실 핫 프레스 기계는 어떤 용도로 사용되나요?
실험실 등방성 프레스를 사용하면 어떤 이점이 있을까요?
등방성 프레스의 주요 유형은 무엇인가요?
실험실 핫 프레스 기계의 주요 기능은 무엇인가요?
실험실 등방성 프레스의 일반적인 응용 분야는 무엇입니까?
등방성 프레스는 어떻게 작동하나요?
실험실 핫 프레스 기계의 주요 구성 요소는 무엇인가요?
어떤 유형의 실험실 등방성 프레스를 사용할 수 있나요?
등방성 프레스를 사용하면 어떤 이점이 있나요?
실험실 핫 프레스 기계는 어떻게 작동할까요?
실험실 등방성 프레스는 어떻게 균일한 밀도를 보장할까요?
어떤 산업에서 등방성 프레스를 사용하나요?
실험실 핫 프레스기를 사용하면 어떤 이점이 있나요?
냉간 등방성 프레스(CIP)의 응용 분야는 무엇입니까?
CIP, WIP, HIP의 차이점은 무엇인가요?
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