TiAl6V4의 후처리 적층 제조 열처리는 고진공로에 의존합니다. 이는 티타늄 합금이 고온에서 산소에 대한 친화력이 매우 높기 때문입니다. 응력 해소 또는 미세 구조 변형이 목표인지 여부에 관계없이, 뜨거운 티타늄을 미량의 산소에 노출시키면 급격한 산화가 발생하여 최종 부품의 기계적 무결성을 손상시킵니다.
고진공 환경의 핵심 목적은 취성이 있는 "알파 케이스" 표면층의 형성을 방지하는 것입니다. 이러한 극도의 보호 없이는 열처리 과정에서 재료의 연성이 파괴되어 복잡한 3D 프린팅 부품이 고응력 응용 분야에 쓸모없게 될 것입니다.
화학적 과제: 산화 및 알파 케이스
고온에서의 티타늄 반응성
TiAl6V4와 같은 티타늄 합금은 산소와 격렬하게 반응합니다. 이러한 반응성은 극한의 열에 국한되지 않습니다. 600°C에서의 응력 해소 어닐링이든 1200°C에서의 용체화 처리이든 관계없이 중요한 문제가 됩니다.
알파 케이스의 위험
가열된 티타늄이 산소를 흡수하면 알파 케이스라고 하는 단단하고 취성이 있는 표면층이 형성됩니다. 이 층은 균열의 시작점이 됩니다.
알파 케이스가 형성되면 부품의 연성이 크게 감소합니다. 이는 부품의 기계적 품질을 저하시켜 하중 하에서 조기 파손되기 쉽게 만듭니다.
해결책: 고진공 보호
극도의 순도 달성
산화를 방지하기 위해 표준 불활성 가스 퍼징은 종종 불충분합니다. 이 공정은 10^-5 mbar의 진공 수준에 도달할 수 있는 고진공로가 필요합니다.
부품 무결성 보장
이 특정 진공 수준은 극도의 보호 환경을 제공합니다. 이는 TiAl6V4를 대기에서 효과적으로 격리하여 가열 및 냉각 주기 동안 표면 화학이 변경되지 않도록 합니다.
진공 처리의 미세 구조적 이점
잔류 응력 제거
적층 제조(AM)는 프린팅 중 급격한 가열 및 냉각으로 인해 본질적으로 상당한 잔류 응력을 발생시킵니다. 고온 진공 어닐링은 이러한 응력을 완화하여 부품 변형을 방지합니다.
결정립 구조 균질화
용체화 처리 온도(약 1200°C)에서 진공 환경은 표면 손상 없이 깊은 미세 구조 변화를 가능하게 합니다. 이 열처리는 용융 풀의 흔적이 포함된 이방성 증착 구조를 미세 등축 결정립 구조로 변환합니다.
인성 향상
이러한 미세 구조 변환은 층 계면에서 발견되는 약점을 제거합니다. 그 결과 균질화된 재료로 인성과 균열 전파 저항성이 크게 향상됩니다.
절충점 이해
장비 복잡성
10^-5 mbar의 진공을 달성하고 유지하려면 특수하고 유지보수가 많이 필요한 산업용로가 필요합니다. 이는 덜 반응성인 금속에 사용되는 표준 열처리 방법에 비해 비용과 복잡성을 증가시킵니다.
공정 민감성
이 공정은 용납하지 않습니다. 진공 씰의 모든 누출 또는 필요한 압력 수준에 도달하지 못하면 값비싼 AM 부품의 즉각적인 산화가 발생하여 스크랩으로 처리될 가능성이 높습니다.
프로젝트에 대한 올바른 선택
TiAl6V4의 후처리 전략을 정의할 때 특정 기계적 요구 사항을 고려하십시오.
- 표면 무결성과 연성이 주요 초점이라면: 열처리 제공업체가 알파 케이스 형성을 완전히 방지하기 위해 고진공 기능(10^-5 mbar)을 보장하는지 확인하십시오.
- 피로 수명과 인성이 주요 초점이라면: 1200°C에서 진공 용체화 어닐링을 사용하여 결정립 구조를 균질화하고 프린팅 공정에 내재된 약한 층 계면을 제거하십시오.
궁극적으로 고진공 처리 비용은 최종 티타늄 부품의 신뢰성과 안전성에 대한 투자입니다.
요약표:
| 열처리 특징 | TiAl6V4 성능에 미치는 영향 |
|---|---|
| 환경 | 고진공(10^-5 mbar)은 취성이 있는 알파 케이스 층을 방지합니다. |
| 응력 해소 | 빠른 3D 프린팅 냉각으로 인한 잔류 응력을 제거합니다. |
| 미세 구조 | 용융 풀을 미세 등축 결정립 구조로 변환합니다. |
| 기계적 특성 | 연성, 인성 및 피로 수명을 크게 향상시킵니다. |
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참고문헌
- Daniel Elitzer, Heinz Werner Höppel. Development of Microstructure and Mechanical Properties of TiAl6V4 Processed by Wire and Arc Additive Manufacturing. DOI: 10.1002/adem.202201025
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